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簡(jiǎn)介：使用在生產(chǎn)制造顯微鏡·光學(xué)拾波等過程中培育的小口徑測(cè)量技術(shù)，開發(fā)而來的使用簡(jiǎn)單小型干涉儀。

簡(jiǎn)介：安裝在KIF-202/KIF-402系列干涉儀上，通過條紋掃描方式取得被測(cè)物的波面相位并顯示且保存測(cè)定結(jié)果的干涉條紋解析系統(tǒng)。用于*以及生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)中對(duì)平面以及球面的面精度進(jìn)行定量評(píng)價(jià)。

簡(jiǎn)介：干涉條紋數(shù)值化配套元件KIF-FS10A，是指將從干涉儀系統(tǒng)KIF-10A系列的干涉條紋得出的像差數(shù)值化顯示的系統(tǒng)。

簡(jiǎn)介：一次安裝能夠同時(shí)測(cè)量線性軸的六個(gè)誤差，包括1個(gè)位置度誤差、2個(gè)直線度誤差、3個(gè)角度誤差。在通常情況下需要數(shù)天時(shí)間進(jìn)行的測(cè)試，使用API激光干涉儀只需幾個(gè)小時(shí)即可完成，實(shí)際應(yīng)用結(jié)果表明，節(jié)省時(shí)間可達(dá)...

簡(jiǎn)介：Renishaw提供品種繁多的精密光柵測(cè)量系統(tǒng)，包括高速直線光柵、平面光柵和圓光柵。可以應(yīng)用于三坐標(biāo)測(cè)量機(jī)、運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)、電子設(shè)備、半導(dǎo)體加工設(shè)備、醫(yī)療設(shè)備、掃描/印刷、科學(xué)儀器、超高精度機(jī)器和裝置、...

簡(jiǎn)介：由德國(guó)JENAer公司生產(chǎn)的微位移測(cè)量激光干涉ZLM800儀，主要用于微位移部件的測(cè)量，角度變化量的監(jiān)測(cè)，運(yùn)動(dòng)平臺(tái)變化量的檢測(cè)，及光刻機(jī)幾何量的測(cè)量，數(shù)控機(jī)床幾何量的測(cè)量等。

簡(jiǎn)介：德國(guó)進(jìn)口雙頻激光干涉儀ZLM700，用于機(jī)床的定位精度、重復(fù)定位精度、位移距離測(cè)量、速度加速度測(cè)量、線性度、直線度、垂直度、平面度、偏擺角、俯仰角、滾動(dòng)角、角速度、圓形軌跡、微振動(dòng)測(cè)量，還能夠測(cè)量...

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