由德國JENAer公司生產(chǎn)的微位移測量激光干涉ZLM800儀，主要用于微位移部件的測量，角度變化量的監(jiān)測，運動平臺變化量的檢測，及光刻機幾何量的測量，數(shù)控機床幾何量的測量等。

產(chǎn)品功能
    ZLM800微位移測量激光干涉儀——雙頻激光干涉儀，主要用于各種平臺和部件的微位測量、各種擺鏡角度變化量的監(jiān)測、運動平臺位移量和角度變化的檢測、光刻機幾何量的測量、數(shù)控機床幾何量的測量等，zui多可實現(xiàn)六軸聯(lián)動。也可通過位移+偏擺+俯仰的三角關(guān)系檢測物體的振動變化。
    1.納米級的多軸聯(lián)動位移、速度、加速度的動靜態(tài)測量分析及運動控制環(huán)同步測量校準；
    2.同步實時測量多軸聯(lián)動驅(qū)動部件的俯仰、扭擺、滾動的角位移變化, X-Y-Z 軸的聯(lián)動插補位移誤差及驅(qū)動匹配誤差分析；
    3.納米級振動的多軸向同步數(shù)據(jù)采集測量和分析。

性能優(yōu)勢 技術(shù)參數(shù)

以下是為*某項目設(shè)計的ZLM800兩個應(yīng)用案例。在*個案例中，用兩個3軸角度干涉儀分別監(jiān)視兩個擺鏡的擺動，實時測試兩個擺鏡對應(yīng)量（俯仰、偏擺和位移）的差異情況。在第二個案例中，用一個3軸角度干涉儀來測試擺鏡的鏡面擺動情況，2個單軸位移干涉儀檢測一個兩軸位移平臺的運動情況。

 

 

下述案例是為國內(nèi)某研究所某項目設(shè)計的ZLM800測量系統(tǒng)。用戶預(yù)先把被測物體放置在密閉箱中，密閉箱留有觀察窗口。所需要測量的數(shù)據(jù)是被監(jiān)視目標Ⅰ、被監(jiān)視目標Ⅱ的X、Y向的角度變化量，以及這兩個目標在Z方向的相對變化量。

ZLM800部分光路圖示例

從X、Y和Z方向同時測量位移變化，其中X和Y在一個水平層面上

從X、Y和Z方向同時測量位移變化，其中X和Y不在一個水平層面上

在水平方向同時測量位移、偏擺和俯仰角度變化（上圖）

 

在垂直方向同時測量位移、偏擺和俯仰角度變化（上圖）

 

 

同時從X和Y方向測量位移和偏擺變化（上圖）

 

同時從X和Y方向測量運動平臺兩個層面的位移變化（上圖）

 

同時從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的角度的變化（1）

 

同時從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的變化（2）

 

同時從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的變化（3）

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