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KRI離子源應用于有機材料熱蒸鍍設備OLED,OPV有機金屬熱沉積系統(tǒng)是一種熱蒸發(fā)的方式,用于將有機或金屬材料沉積到基板表面上.該過程需要通過精確控制溫度和沉積速率來實現(xiàn)薄膜的高精度和均勻性.上海伯東美國KRI考夫曼

KRI離子源應用于超高真空電子束蒸鍍設備UHVE-beamSystem超高真空環(huán)境的特征為其真空壓力低于10-8至10-12torr,超高真空環(huán)境對于科學研究非常重要,因為實驗通常要求在整個實驗過程中,表面應保持無污染狀態(tài)和使用低能電

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近年來，面對寡頭壟斷格局，中國半導體產業(yè)掀起了一股國產化替代的浪潮。作為半導體制造的核心流程，光刻工藝對于芯片制造來說至關重要，而光刻膠正是光刻工藝最重要的耗材，在光刻過程中起到防腐蝕的保護作用，對光

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