在微電子、半導(dǎo)體、光電子等高科技制造領(lǐng)域，光刻工藝是至關(guān)重要的一環(huán)，而光刻膠配套試劑則是保障光刻工藝順利進(jìn)行的關(guān)鍵因素。我們提供一系列優(yōu)質(zhì)的光刻膠顯影液、去膠液以及增粘劑，滿足不同工藝和需求。
顯影液系列
RZX-3038，這是一款國(guó)產(chǎn)通用型光刻膠顯影液，規(guī)格為4L/瓶。它具有廣泛的適用性，可用來顯影S1800系列、AZ5214、ROL-7133等多種系列和型號(hào)的光刻膠。無論是哪種類型的光刻膠，RZX-3038都能發(fā)揮出色的顯影效果，為后續(xù)的工藝步驟奠定堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)，其國(guó)產(chǎn)屬性也降低了成本，是眾多實(shí)驗(yàn)室和小型企業(yè)的理想選擇。
MF-319，規(guī)格為5L/瓶，這是一款進(jìn)口光刻膠顯影液，是S1800 G2系列光刻膠配套專用顯影液。進(jìn)口的優(yōu)質(zhì)原料保證了其顯影的精準(zhǔn)性和穩(wěn)定性，能夠精準(zhǔn)地顯現(xiàn)出光刻膠中的圖案，確保微細(xì)結(jié)構(gòu)的精確復(fù)制，適用于對(duì)精度要求較高的制造領(lǐng)域。
AZ 400K，規(guī)格為加侖/瓶，同樣是進(jìn)口光刻膠顯影液，可用來顯影AZ等多種系列和型號(hào)的光刻膠。它具有良好的顯影性能，能夠快速且均勻地顯影，提高生產(chǎn)效率。其穩(wěn)定的化學(xué)性質(zhì)也保證了在不同環(huán)境條件下都能保持一致的顯影效果。
AZ 300 MIF Developer，規(guī)格為20L/桶，同樣適用于顯影AZ等多種系列和型號(hào)的光刻膠。大容量的包裝設(shè)計(jì)，適合大規(guī)模生產(chǎn)使用，減少了頻繁更換試劑的麻煩，降低了生產(chǎn)成本。
PGMEA，規(guī)格為4L/瓶，是國(guó)產(chǎn)SU8光刻膠顯影液。針對(duì)SU8光刻膠的特性進(jìn)行了優(yōu)化，能夠有效地顯影SU8光刻膠，保證顯影后的圖案清晰、邊緣整齊。
SU-8 Developer，規(guī)格為4L/瓶，這是一款進(jìn)口光刻膠去膠液，是SU-8系列產(chǎn)品配套專用顯影液。它能夠精準(zhǔn)地與SU-8光刻膠發(fā)生反應(yīng)，實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的顯影效果，為SU-8光刻工藝提供了可靠的保障。
去膠液系列
NMP，規(guī)格為4L/瓶，是國(guó)產(chǎn)通用型光刻膠去膠液?？捎脕砣コ齋1800 G2系列、LOR/PMGI SF系列等多種型號(hào)光刻膠。其強(qiáng)大的去膠能力，能夠快速去除光刻膠殘留，保證基底的清潔度，為下一次的光刻工藝做好準(zhǔn)備。
AZ 400T STRIPPER，規(guī)格為加侖/瓶，是進(jìn)口光刻膠去膠液，是AZ系列產(chǎn)品配套專用去膠液。它針對(duì)AZ系列光刻膠的特性進(jìn)行了優(yōu)化，能夠有效地去除AZ系列光刻膠，避免殘留對(duì)后續(xù)工藝的影響。
remover 1165，規(guī)格為加侖/瓶，是進(jìn)口光刻膠去膠液，是S1800 G2、SPR 220系列、PM等系列產(chǎn)品配套專用去膠液。它具有廣泛的適用性，能夠快速去除多種系列光刻膠，且對(duì)基底材料無損傷。
Remover PG，規(guī)格為4L/瓶，是進(jìn)口光刻膠去膠液，是SU8、LOR/PMGI SF、PMMA等多個(gè)系列產(chǎn)品配套專用去膠液。它能夠精準(zhǔn)地去除這些系列光刻膠，保證去膠的均勻性。
增粘劑
HMDS，規(guī)格有1L/瓶和加侖/瓶?jī)煞N。它是一種光刻膠增粘劑，通過旋涂或熏蒸的方法使增粘劑附著在襯底表面，可有效改善光刻膠與襯底的粘附性，適用于玻璃、石英等粘附性比較差的襯底。在光刻工藝中，良好的粘附性能夠保證光刻膠在后續(xù)的顯影、刻蝕等過程中不會(huì)脫落，提高工藝的穩(wěn)定性和成品率。
我們提供的這一系列光刻膠配套試劑，無論是國(guó)產(chǎn)還是進(jìn)口，都具有各自的優(yōu)勢(shì)和特點(diǎn)，能夠滿足不同客戶的需求。我們致力于為客戶提供高質(zhì)量、高性價(jià)比的產(chǎn)品，為光刻工藝的發(fā)展提供有力支持。
