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GeminiSEM 掃描電子顯微鏡

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為對(duì)任意樣品進(jìn)行高水準(zhǔn)的成像和分析而生蔡司GeminiSEM系列產(chǎn)品具有出色的探測(cè)效率,能夠輕松地實(shí)現(xiàn)亞納米分辨成像

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為對(duì)任意樣品進(jìn)行高水準(zhǔn)的成像和分析而生

       蔡司 GeminiSEM 系列產(chǎn)品具有出色的探測(cè)效率,能夠輕松地實(shí)現(xiàn)亞納米分辨成像。無(wú)論是在高真空還是在可變壓力模式下,更高的表面細(xì)節(jié)信息靈敏度讓您在對(duì)任意樣品進(jìn)行成像和分析時(shí)都具備更佳的靈活性,為您在材料科學(xué)研究、生命科學(xué)研究、工業(yè)實(shí)驗(yàn)室或是顯微成像平臺(tái)中獲取各種類型樣品在微觀世界中清晰、真實(shí)的圖像,提供靈活、可靠的場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡技術(shù)和方案。

 特 點(diǎn):

  • GeminiSEM 500 具有出色的分辨率,在較低的加速電壓下仍可呈現(xiàn)給您更強(qiáng)的信號(hào)和更豐富的細(xì)節(jié)信息,其創(chuàng)新設(shè)計(jì)的NanoVP可變壓力模式,甚至讓您在使用時(shí)擁有在高真空模式下工作的感覺(jué);

  • GeminiSEM 450 具有出色的易用性設(shè)計(jì)、更快的響應(yīng)和更高的表面靈敏度,使其能快速、靈活、可靠地對(duì)樣品進(jìn)行表面成像和分析,充當(dāng)您的得力助手;

  • GeminiSEM 300 具有出色的分辨率、更高的襯度和更大且無(wú)畸變的成像視野,可方便地選取適合樣品的真空度等環(huán)境參數(shù),使FESEM初學(xué)者也能快速掌握;


- GeminiSEM 500 為您呈現(xiàn)任意樣品表面更強(qiáng)的信號(hào)和更豐富的細(xì)節(jié)信息,尤其在低的加速電壓下,在避免樣品損傷的同時(shí)快速地獲取更高清晰度的圖像。

  • 經(jīng)優(yōu)化和增強(qiáng)的Inlens探測(cè)器可高效地采集信號(hào),助您快速地獲取清晰的圖像,并使樣品損傷降至更低;

  • 在低電壓下?lián)碛懈叩男旁氡群透叩囊r度,二次電子圖像分辨率1 kV達(dá)0.9nm,500 V達(dá)1.0 nm,無(wú)需樣品臺(tái)減速即可進(jìn)行高質(zhì)量的低電壓成像,為您呈現(xiàn)任意樣品在納米尺度上更豐富的細(xì)節(jié)信息;

  • 應(yīng)用樣品臺(tái)減速技術(shù)-(Tandem decel),可在1 kV下獲得高達(dá)0.8nm二次電子圖像分辨率;

  • 創(chuàng)新設(shè)計(jì)的可變壓力模式-NanoVP技術(shù),讓您擁有身處在高真空模式下工作的感覺(jué)。


- GeminiSEM 450 更快的響應(yīng)和更高的表面靈敏度使其能快速、靈活、可靠地對(duì)樣品進(jìn)行表面成像和分析,簡(jiǎn)便、快速地進(jìn)行EDS能譜和EBSD等分析,同時(shí)保持出色的空間分辨率,充當(dāng)您的得力助手。

  • 在EDS能譜和EBSD分析模式下仍保持高分辨率的成像,在低電壓條件下工作時(shí)更為優(yōu)異;

  • 可快速地對(duì)樣品進(jìn)行大范圍及高質(zhì)量成像;

  • 經(jīng)優(yōu)化的電子光學(xué)鏡筒,減少了工作過(guò)程中進(jìn)行重新校準(zhǔn)的復(fù)雜流程,節(jié)省成像時(shí)間,提高工作效率;

  • 無(wú)論是不導(dǎo)電樣品、磁性樣品或是其他類型的樣品,無(wú)論是高真空或是可變壓力模式,均可實(shí)現(xiàn)快速和高質(zhì)量的成像和分析;


- GeminiSEM 300 將讓您體驗(yàn)到在更高的分辨率和更佳的襯度下進(jìn)行極大視野范圍成像的樂(lè)趣,并且在高真空或是可變壓力模式下都可以實(shí)現(xiàn)。

  • 得益于高效的信號(hào)采集系統(tǒng)和優(yōu)異的分辨率性能,可實(shí)現(xiàn)快速、高質(zhì)量、無(wú)畸變的大范圍成像;

  • 創(chuàng)新設(shè)計(jì)的高分辨率電子槍模式,為對(duì)磁性樣品、不導(dǎo)電樣品以及電子束敏感樣品的低電壓成像量身訂制解決方案;

  • 蔡司獨(dú)樹(shù)一幟的鏡筒內(nèi)能量選擇背散射探測(cè)器,在低電壓下也可輕松地獲得高質(zhì)量的樣品材料襯度圖像;

  • NanoVP技術(shù)讓您可以使用鏡筒內(nèi)Inlens二次電子探測(cè)器對(duì)要求苛刻的不導(dǎo)電樣品進(jìn)行高靈敏度、高分辨成像。

 參 數(shù):

基本規(guī)格

蔡司 GeminiSEM 500

 蔡司 GeminiSEM 450

蔡司 GeminiSEM 300

熱場(chǎng)發(fā)射電子槍,穩(wěn)定性優(yōu)于0.2 %/h

加速電壓

0.02 - 30 kV

探針電流

3 pA - 20 nA

3 pA - 40 nA

3 pA - 20 nA

(100   nA配置可選)

(100   nA或300 nA配置可選)

(100   nA配置可選)

存儲(chǔ)分辨率

達(dá)32k × 24k 像素

放大倍率

50 – 2,000,000

12 – 2,000,000

12 – 2,000,000

標(biāo)配探測(cè)器

鏡筒內(nèi)Inlens二次電子探測(cè)器

樣品室內(nèi)的Everhart Thornley二次電子探測(cè)器

可選配的

項(xiàng)目

鏡筒內(nèi)能量選擇背散射探測(cè)器

-

角度選擇背散射探測(cè)器

角度選擇背散射探測(cè)器

環(huán)形STEM探測(cè)器(aSTEM 4)

EDS能譜儀

EBSD探測(cè)器(背散射電子衍射)

NanoVP可變壓力模式

高效VPSE探測(cè)器(包含在NanoVP可變壓力選件中)

局部電荷中和器

可訂制特殊功能樣品臺(tái)

環(huán)形背散射電子探測(cè)器

陰極射線熒光探測(cè)器


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