公司簡(jiǎn)介
芬蘭K-Patents OY是世界*臺(tái)在線數(shù)字式折光儀制造商，是**僅專業(yè)生產(chǎn)數(shù)字式在線折光儀，且擁有光學(xué)、機(jī)械結(jié)構(gòu)、信號(hào)處理、智能圖像診斷等多項(xiàng)世界的制造商。
K-Patents在線折光儀從**保障儀表的高準(zhǔn)確度、高穩(wěn)定性和高可靠性，它能承受各種惡劣測(cè)量環(huán)境挑戰(zhàn)，確保在各種惡劣條件下連續(xù)免維護(hù)運(yùn)行10年以上。
K-Patents產(chǎn)品被廣泛用于各種溶液濃度（或糖度、折射率）測(cè)量，在食品飲料、生化制藥、石油化工、半導(dǎo)體、采礦冶金、造紙紡織等各個(gè)行業(yè)安裝數(shù)量已超過12000臺(tái)?。?！
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技術(shù)優(yōu)勢(shì)
芬蘭K-Patents 在線折光儀是溶液濃度測(cè)量的理想選擇， 它具有高準(zhǔn)確度、終身免維護(hù)、無零點(diǎn)漂移、不受氣泡、顆粒物雜質(zhì)、振動(dòng)影響， 無備品備件消耗等優(yōu)點(diǎn)。
- 真正意義上的數(shù)字化測(cè)量： 不受溶液中氣泡、顆粒物的干擾。
- 光學(xué)核心技術(shù)：儀表終身無漂移，無再校準(zhǔn)，無需機(jī)械調(diào)整。
- 智能光學(xué)圖像診斷功能，用戶隨時(shí)可以查看zui底層工作狀態(tài)。
- 所有傳感器可以任意互換使用，不受測(cè)量介質(zhì)限制，即插即用，無需做任何設(shè)置更改。
- 以太網(wǎng)連接：方便與電腦通信，進(jìn)行數(shù)據(jù)存儲(chǔ)和儀表操作。
- 溫度補(bǔ)償：內(nèi)置Pt1000溫度傳感器，自動(dòng)測(cè)量溫度并進(jìn)行補(bǔ)償。
- 快捷的儀表校驗(yàn)：使用標(biāo)準(zhǔn)折射液即可快速校驗(yàn)儀表，以滿足工廠質(zhì)量管理體系要求。
- 雙探頭連接：一個(gè)變送器可以同時(shí)連接兩個(gè)傳感器。
- 易于安裝：提供法蘭或夾鉗式安裝。
- 免維護(hù)，低運(yùn)行成本：無需日常維護(hù)，備件耗用極低。
測(cè)量原理
K-Patents 在線折光儀 PR-23利用光的折射、全反射原理，采用數(shù)字化智能圖像處理，以及多項(xiàng)準(zhǔn)確測(cè)量液體折射率及濃度。
光的折射
光的折射現(xiàn)象是指光從一種介質(zhì)斜射入另一種介質(zhì)時(shí)，因傳播速度不同而發(fā)生傳播方向改變，從而使光線在不同介質(zhì)的交界處發(fā)生偏折。光的折射與光的反射一樣都是發(fā)生在兩種介質(zhì)的交界處，只是反射光返回原介質(zhì)中，而折射光線則進(jìn)入到另一種介質(zhì)中。在兩種介質(zhì)的交界處，既發(fā)生折射，同時(shí)也發(fā)生反射。
光的全反射
當(dāng)光由光密（即光在此介質(zhì)中的折射率大的）媒質(zhì)射到光疏（即光在此介質(zhì)中折射率小的）媒質(zhì)的界面時(shí)，全部被反射回原媒質(zhì)內(nèi)的現(xiàn)象。
臨界角
指光發(fā)生全反射時(shí)的入射角，當(dāng)光射到兩種介質(zhì)界面，只產(chǎn)生反射而不產(chǎn)生折射的現(xiàn)象．當(dāng)光由光密介質(zhì)射向光疏介質(zhì)時(shí)，折射角將大于入射角，當(dāng)入射角增大到某一數(shù)值時(shí)，折射角將達(dá)到90°，這時(shí)在光疏介質(zhì)中將不出現(xiàn)折射光線，只要入射角大于或等于上述數(shù)值時(shí)，均不再存在折射現(xiàn)象，這就是全反射。全反射的條件是：①光必須由光密介質(zhì)射向光疏介質(zhì)，②入射角必須大于或等于臨界角(C)。
sinc=n1/n2 (c為臨界角，n1為棱鏡折射率）
PR-23-MS典型應(yīng)用
K-Patents半導(dǎo)體行業(yè)在線折光儀PR-23-MS實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)整個(gè)半導(dǎo)體制造工藝中的連續(xù)液體化學(xué)品濃
度。也就是從化學(xué)品供應(yīng)直到工藝的全過程的質(zhì)量控制。
散裝化學(xué)品供應(yīng)
在搬運(yùn)和儲(chǔ)存過程中可能會(huì)發(fā)生化學(xué)品質(zhì)量的變化。如果化學(xué)品規(guī)格不在預(yù)設(shè)的范圍內(nèi)，PR-23
-MS會(huì)觸發(fā)報(bào)警以防止錯(cuò)誤的化學(xué)品或濃度不符的化學(xué)品進(jìn)入到工藝流程中。
濕法蝕刻
蝕刻劑的溫度和濃度是濕蝕刻速度的主要影響因素。如果知道蝕刻劑濃度，就可以優(yōu)化蝕刻工藝
并檢測(cè)結(jié)束點(diǎn)。例如，當(dāng)使用PR-23-MS連續(xù)監(jiān)測(cè)加熱的氫氧化鉀水溶液濃度就可以優(yōu)化氫氧化鉀
蝕刻工藝。
蝕刻后晶片清潔
PR-23-MS用于測(cè)量昂貴的超純化學(xué)品濃度和聚合物清除，例如EKC-265蝕刻后晶片清潔。這給浸泡
的過程提供了實(shí)時(shí)的指示，有利于增加浸泡液使用以及減少化學(xué)品的消耗。
化學(xué)機(jī)械拋光
PR-23-MS提供一種監(jiān)測(cè)酸液和化學(xué)品濃度的方法，例如化學(xué)機(jī)械拋光摩擦泥漿中雙氧水的含量。這
可以用來檢測(cè)結(jié)束點(diǎn)以及達(dá)到更好的拋光均勻性。
典型的化學(xué)品以及混合液：
醋酸CH3COOH，丙酮CH3COCH3，氨水NH4OH，氟化銨NH4F，氫氧化銨NH4OH，硫酸銨(NH4)2SO4，檸
檬酸C6H8O7，稀氫氟酸DHF，氯化亞鐵FeCl2，蟻酸HCO2H，氫氟酸HF，鹽酸HCl，雙氧水H2O2，異
丙醇IPA，氯化鎂MgCl2，氯化鎳NiCl2，硝酸HNO3，磷酸H3PO4，氫氧化鉀KOH，氯化鈉NaCl，
氫氧化鈉NaOH，硫酸H2SO4，羥化四甲基銨TMAH (CH3)4NOH
RCA1, SC1 (APM), SC2, RCA2, EKC265, ACT930, ACT970
技術(shù)規(guī)格
折射率范圍： 滿量程時(shí) nD =1.3200...1.5300（對(duì)應(yīng) 0...100 % b.w.）
準(zhǔn)確度： 折射率 nD ± 0.0001（通常情況下對(duì)應(yīng) ± 0.05% 重量百分比濃度）
重復(fù)性： 折射率 nD ± 0.00005（通常情況下對(duì)應(yīng) ± 0.025% 重量百分比濃度）
響應(yīng)速度： 無阻尼時(shí)間 1 s，阻尼時(shí)間 5 分鐘可選
光學(xué)核心部件： 無需機(jī)械調(diào)整（獲美國號(hào) No. US6067151）
數(shù)字化測(cè)量： 3648 像素 CCD 照相機(jī)
光源： LED 3D光源，589 nm 波長，鈉D線
溫度傳感器： 內(nèi)置 Pt-1000，線性遵從 IEC 751
溫度補(bǔ)償： 自動(dòng)數(shù)字補(bǔ)償
過程溫度： -20°C 到150°C（180°C可選）
校準(zhǔn)： 菜單式引導(dǎo)，使用標(biāo)準(zhǔn)折射率液體自動(dòng)校驗(yàn)，并生成可追溯校驗(yàn)報(bào)告供存檔。
自診斷： 智能圖像診斷功能，供用戶實(shí)時(shí)掌握光學(xué)系統(tǒng)工作原始狀態(tài)。
售后服務(wù)
終身檔案化用戶管理，支持，快捷完善的本地化服務(wù)
K-Patents 對(duì) 每一個(gè)用戶的貼心服務(wù)和支持也是它贏得廣泛贊譽(yù)的原因之一。自訂貨起，我們對(duì)每一臺(tái)儀表建立了電子檔案，任何*服務(wù)工程師都可以在線了解到儀表應(yīng)用 信息，并將發(fā)生的售后記錄記錄在案。這一好處在于，用戶服務(wù)不會(huì)受到中間商，某個(gè)服務(wù)人員的影響，無論何時(shí)，用戶都可以享受到廠商的貼心服務(wù)。（附：客戶 檔案舉例）
凱帕特斯儀器技術(shù)咨詢（上海）有限公司是K-Patents 在華全資子公司 ，其主要任務(wù)就是為中國用戶提供更為快捷的專業(yè)化本地服務(wù)。我們具有非常專業(yè)的售后服務(wù)人員及裝備，儀表無需返至芬蘭工廠進(jìn)行處理。
K-Patents 總部也非常重視對(duì)中國用戶的支持和服務(wù)，每年多次派遣技術(shù)人員親臨中國，進(jìn)行用戶巡訪及培訓(xùn)等。
