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激光衍射粒度分析儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 廈門淳涵科技有限公司
  • 品牌
  • 型號
  • 所在地 廈門市
  • 廠商性質 其他
  • 更新時間 2024/9/26 15:28:28
  • 訪問次數(shù) 69

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產(chǎn)品詳情簡介激光粒度儀 HELOS/BR,測試區(qū)域可結合干法/濕法分散系統(tǒng)或樣品適配器,用于測試0.1微米到 875微米的粒度范圍 (使用HELOS/KR, HELOS-VARIO/KR可測試到8,750微米).

詳細信息 在線詢價

產(chǎn)品詳情簡介
激光粒度儀 HELOS/BR,測試區(qū)域可結合干法/濕法分散系統(tǒng)或樣品適配器,用于測試0.1微米到 875微米的粒度范圍 (使用HELOS/KR, HELOS-VARIO/KR可測試到8,750微米).

技術參數(shù)  尺寸.
HELOS,使用單一物理原理(在平行激光光束中的激光衍射)測試0.1-8750微米全范圍。儀器提供兩種計算模式:FREE:基于Fraunhofer衍射原理的無參數(shù)計算方案,MIEE:基于精確Mie理論的大量程擴展計算,可供選擇。量程鏡頭的組合在這兩種計算方法下都可應用,確保測試的寬范圍同時獲得的測試精度。
它是用于干樣和濕樣,也就是粉體、懸浮液、乳濁液和噴霧等粒度分析的經(jīng)典儀器。是符合ISO 13320"Particle size analysis - laser diffraction methods"(“粒度分析-激光衍射法”)規(guī)定,并且設計的精度相對于標準米高達±1%。
分辨率高,重復性好,結合高速的數(shù)據(jù)傳輸,網(wǎng)絡接口以及標準化的支持新帕泰克全系列儀器的WINDOX操作軟件,保證了更的粒度解決方案。
HELOS分析系統(tǒng)與其模塊化的配置,通過結合適合的分散單元,用于不同性質的樣品分析。

HELOS特點

(Helium-Neon Laser Optical System)

HELOS代表具有相同高品質的激光粒度儀系列產(chǎn)品,該系列擁有以下幾個種類:

模塊1 測試范圍 應用
HELOS /BR 0.1 - 875 微米 實驗室/ at-line在線
  /KR 0.1 - 8 750 微米 實驗室/ at-line在線
VARIO /KR 0.1 - 8 750 微米 實驗室/ at-line在線
MYTOS2 0.25 - 3 500 微米 on-line 在線/ at-line在線

Outstanding performance characteristics common to all HELOS sensors:

一個測試原理涵蓋整個從0.1微米到3500微米的測試范圍,632.8nm平行激光束,符合ISO 13320.
相對于標準米,精度在±1%以內(nèi)。
最多7個測量鏡頭,可通過軟件選定。每個鏡頭都是特殊設計的(傅里葉-)物鏡,具有的分辨率和測試精度。
模塊化的設計結構,根據(jù)實際應用,用不同的分散系統(tǒng)與主機組合分析粉體、懸浮液、乳濁液、氣溶膠與噴霧等。
精密半圓形(180°)多元探測器帶自動對焦準直,以獲得的衍射模型,尤其是非球形顆粒。
自動調(diào)節(jié)光束直徑以適應量程鏡頭,從而獲得的工作距離,這對例如擴散氣溶膠等的測試非常重要。
使用FREE (Fraunhofer Enhanced Evaluation)模式計算粒度分布:
Fraunhofer理論 (用于未知光學參數(shù)的測試),測試范圍為0.1至8 750微米
MIEE (Mie Extended Evaluation):
Mie理論 (用于球形的、各向同性的、均勻的并已知符合折射率的顆粒測試,供選擇),測試范圍為 0.1至8 750微米
量程鏡頭組合: 
2-7個量程鏡頭測試可整合為一個粒度分布結果 (供選擇).
WINDOX 5 軟件用于儀器的控制和粒度分析數(shù)據(jù)的計算:
一個軟件支持全部的off-line, at-line, on-line, in-line儀器的操作,
數(shù)據(jù)庫導向,多傳感器適用,應用于> 106 HELOS測試,
符合21 CFR rule 11
每秒收集2000次的粒度信息,可自定義采樣頻率
使用統(tǒng)計信息,提高反演算法
堅固的全金屬外殼以及整合的精密光學平臺,允許傳感器在任意方向上的操作,例如用于噴霧測試時顛倒應用,甚至垂直應用
測試鏡頭轉換快速
通信:
TCP-IP接口,與所有的傳感器組件和外部設備并行通信
通過內(nèi)置的Web界面進行系統(tǒng)設置
通過aux-in/out和ZigBit™無線網(wǎng)絡進行特殊裝置的控制
 
除了粒徑大小之外,對顆粒真實形貌的監(jiān)測和分析已經(jīng)變得越重要。圖像分析技術正是為實現(xiàn)這一目的而誕生的。
對于顆粒大小和形貌的分析技術來說,存在以下幾個重要問題:

  1. 圖像分析技術基于顆粒數(shù)的統(tǒng)計學規(guī)律。如果顆粒數(shù)很少,就會造成粒度分布中很大的誤差:nmin > 1/E?max 因此為了保證1%的標準偏差,顆粒數(shù)必須大于10,000。很多情況下測試結果是按照體積分布函數(shù)Q3(x)給出的。而根據(jù)后來出臺的ISO 14488 (2003),最少顆粒數(shù)對于粒度分布結果本身具有決定性的作用。通常為了保證小于1%的誤差,每次測量檢測的顆粒數(shù)必須大于1,000,000個。
  2. 顆粒與顆粒之間必須互相分開。否則就必須使用非常耗時的計算方法通過軟件把團聚在一起的多個顆粒單獨識別出來。未經(jīng)分散的顆粒會造成總測試顆粒數(shù)的減少并帶來更長的計算時間。
  3. 整個測試時間必須被保持在可接受的范圍內(nèi)。對于1,000,000個顆粒來說,如果每副圖像上有10個顆粒的話,那么就需要拍100,000 幀的圖像來完成測試。按照每秒鐘拍攝25副照片的常規(guī)速度,這樣的測試將消耗400秒,也就是一次測試時間超過一個小時。
  4. 為了獲得顆粒的真實形貌必須在照片上可以清晰的分辨它的邊緣,這就要求所獲得的照片具有非常高的對比度和清晰度
  5. 粒子在測試過程中必須保持取向的任意性,否則得出的粒度測試結果將會不準確。


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