光電流成像系統(tǒng)Photocurrent Mapping System 又稱為掃描光電流顯微成像系統(tǒng)，用來檢測材料光電流強(qiáng)度分布的設(shè)備，主要用來測量光電材料的光電響應(yīng)信號和表征材料的光電特征。 說明：光電流成像系統(tǒng)Photocurrent Mapping system 利用了顯微成像掃描技術(shù)，對樣品表面做一個(gè)快速掃描。產(chǎn)生的光電流信號通過探針引到電流源表，再顯示在軟件界面，做成成像圖顯示樣品表面電流分布。 光

光電流成像光譜系統(tǒng)

用于材料表面光電流分布特性的激光共聚焦光電流成像光譜系統(tǒng)，帶低溫探針臺(tái)。

光電流成像系統(tǒng)Photocurrent Mapping system 利用了顯微成像掃描技術(shù)，對樣品表面做一個(gè)快速掃描。產(chǎn)生的光電流信號通過探針引到電流源表，再顯示在軟件界面，做成成像圖顯示樣品表面電流分布。

光電流成像系統(tǒng)Photocurrent Mapping System 又稱為掃描光電流顯微成像系統(tǒng)，用來檢測材料光電流強(qiáng)度分布的設(shè)備，主要用來測量光電材料的光電響應(yīng)信號和表征材料的光電特征。

Photocurrent Mapping system 光電流成像系統(tǒng)將光電材料對于光信號響應(yīng)的不均勻性以可視化和量化的方式顯示出來。該系統(tǒng)可以研究光電探測器的量子效率，器件的電阻分布特征，研究太陽能電池光生電流的不均勻性，研究器件吸收和電荷生成的微區(qū)特性，以及光電材料界面，半導(dǎo)體結(jié)區(qū)的品質(zhì)分布等。

產(chǎn)品特點(diǎn)：
超快掃描成像（大于1000譜/S）

超緊湊結(jié)構(gòu)（光電流掃描成像和顯微鏡一體式設(shè)計(jì)）

成本低（客戶僅需要在原來的探針臺(tái)或者拉曼設(shè)備上做改造就可以，不需要額外購買平移臺(tái)，這是振鏡掃描的優(yōu)勢所在）

可視化和人性化軟件（定制研發(fā)了電流源表輸出和成像掃描視覺窗口，客戶在一個(gè)界面實(shí)現(xiàn)光電流數(shù)據(jù)和成像mapping的對比比較方便）

可擴(kuò)展增加其它波長的激光器，增加拉曼光譜，熒光光譜成像系統(tǒng)等

可增加高低溫恒溫器，鎖相放大器，斬波器等

關(guān)鍵參數(shù)：
激光器（光源） ?  

l可配置1~3個(gè)激光器，窄線寬激光器用于拉曼光譜測試和光電流測試
l波長范圍： 400~1550nm （典型的為 VIS: 405nm/532nm/633nm,   NIR :1550nm）

l可選配一個(gè)光纖接口用于接入外部激光器光源

l可選配超連續(xù)譜白光激光器（400nm~2400nm）

顯微鏡             

l奧林巴斯顯微鏡：BX61 （正置）（可根據(jù)客戶要求選配）
l反射式/透射式LED照明

l物鏡：標(biāo)配（40X， NA=0.75） 選配：多種倍率和超長焦距物鏡
l透過率：＞60% （360nm~1000nm）

掃描模塊 ?             

l掃描面積：200um×200um
l掃描精度：   小于10nm

l步進(jìn)：＜50nm
l掃描速度：＞1000 譜/秒

電流 ?                    

l測量范圍：1pA – 1A
l準(zhǔn)確度： 0.04%

l電流源表：Keithley 2400

探針臺(tái) ?                

l可根據(jù)客戶要求定制

其它 ?                   

l低溫恒溫器（2.2K）/高溫?zé)崤_(tái)（1500℃）
l根據(jù)客戶要求定制探針臺(tái)

l可選配斬波器，前置放大器，鎖相放大器等提高系統(tǒng)靈敏度