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簡(jiǎn)介：離子束刻蝕系統(tǒng)儀器應(yīng)用：離子拋光離子清洗等離子體灰化等離子體氧化、氮化表面改性反應(yīng)刻蝕生物醫(yī)藥傳感器

簡(jiǎn)介：RIE是干蝕刻的一種，這種蝕刻的原理是，當(dāng)在平板電極之間施加10～100MHZ的高頻電壓（RF，radiofrequency）時(shí)會(huì)產(chǎn)生數(shù)百微米厚的離子層（ionsheath），在其中放入試樣，離子...

簡(jiǎn)介：臺(tái)式無掩膜激光直寫光刻機(jī)打破了市面上傳統(tǒng)激光直寫設(shè)備高昂價(jià)格壁壘，是現(xiàn)階段市面上優(yōu)性價(jià)比的一款*的激光直寫光刻系統(tǒng)

簡(jiǎn)介：光刻機(jī)/紫外曝光機(jī)（MaskAligner）又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機(jī)，紫外曝光機(jī)等；此型號(hào)光刻機(jī)是所有進(jìn)口設(shè)備中性能價(jià)格比高的型號(hào)，達(dá)到歐美品牌的對(duì)準(zhǔn)精度，CCD顯示屏對(duì)準(zhǔn)...

簡(jiǎn)介：實(shí)驗(yàn)級(jí)R2P納米壓印系統(tǒng)又名桌面式微納米結(jié)構(gòu)復(fù)制機(jī)，可以說是“Themostcost-effectiveholographicprintingtechnologyavailabletoday現(xiàn)階段...

簡(jiǎn)介：Nanonex納米壓印系統(tǒng)NX-250是基于氣墊軟壓技術(shù)（ACP），超過12年、15代產(chǎn)品開發(fā)經(jīng)驗(yàn)的自動(dòng)化壓印操作，Nanonex壓印系統(tǒng)經(jīng)過大量實(shí)時(shí)實(shí)地驗(yàn)證，質(zhì)量可靠，性能*穩(wěn)定。

簡(jiǎn)介：ATMKristall680全自動(dòng)電解拋光蝕刻機(jī)是一款通過觸屏界面直觀操作的全自動(dòng)電解拋光蝕刻。具有獨(dú)立的拋光蝕刻單元和控制單元，并可以在通風(fēng)櫥中使用。