移動端
直播推薦
回放
回放
開啟5G新時代 XPS成像技術(shù)在半導體器件中的應(yīng)用
近年來，中國已成為帶動半導體市場增長的主要動力，隨著5G商用牌照落地并在2019年11月份正式使用，會大大推動半導體芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。失效分析對于提高半導體產(chǎn)品質(zhì)量，技術(shù)開發(fā)、改進，產(chǎn)品修復(fù)及仲裁失效事故等方面具有很強的實際意義。針對半導體器件局部失效分析，可以借助XPS成像技術(shù)及微區(qū)分析進行表征，島津XPS配備自主技術(shù)的DLD二維陣列延遲線檢測器，可以同時記錄光電子的信號強度及其發(fā)射位置，亦可以在數(shù)秒的時間里獲取完整的XPS譜圖及高能量分辨的化學狀態(tài)圖像。小編帶您一起來看看XPS成像技術(shù)在半導體器件中的應(yīng)用實例吧！
實例一：引腳跡斑分析
引腳是指從集成電路(芯片)內(nèi)部電路引出與外圍電路的接線，構(gòu)成了芯片的接口。隨著電子技術(shù)的發(fā)展，電路板上的器件引腳間距越來越小，器件排列更加密集，電場梯度更大，因此電路板對引腳的腐蝕也變得越來越敏感。如下為一故障銅引腳器件，在AXIS SUPRA儀器腔體顯微鏡下可看到有一處跡斑(直徑~150μm)，通過成像技術(shù)結(jié)合微區(qū)分析技術(shù)(見圖1)，可知在該區(qū)域額外出現(xiàn)了Cl元素，對比周圍區(qū)域測試結(jié)果，推測該元素的存在是造成腐蝕的主要原因，此外O元素峰強也有所增加，說明該區(qū)域氧化現(xiàn)象更為顯著。
圖1 平行成像及選區(qū)測試結(jié)果
實例二：“金手指”缺陷區(qū)域分析
“金手指”是指電腦硬件如內(nèi)存條上與內(nèi)存插槽、顯卡與顯卡插槽之間等進行電信號傳輸?shù)慕橘|(zhì)，金手指涂敷工藝不良或由于使用時間過長導致其表面產(chǎn)成了氧化層，均會導致接觸不良，甚至造成器件報廢。如下采用XPS分析結(jié)合平行成像技術(shù)對“金手指”區(qū)域及缺陷處進行測試，不同視場成像結(jié)果見下圖2，亮度越高的區(qū)域表示Au元素含量越多。
圖2 不同視場下的“金手指”樣品成像結(jié)果
對缺陷部位及顯著存在Au元素部位分別進行小束斑選區(qū)分析，測試位置見下圖3，由測試得到的全譜結(jié)果可知，兩個區(qū)域均存在一定量的F元素；在圖像中較亮區(qū)域測得結(jié)果中，Au元素為主要存在元素，表面C、O元素較少，而缺陷部位測試結(jié)果中則只具有少量的Au 4f信號，而C、O、N元素峰較為顯著，推測該缺陷部位存在一定的有機物污染。
圖3 “金手指”樣品缺陷處微區(qū)分析結(jié)果
小 結(jié)
選用XPS成像技術(shù)對半導體器件微區(qū)的表面元素進行分析，可以清楚地了解各元素在器件表面的分布情況，結(jié)合污染元素組成及化學狀態(tài)進行有目的的原因排查，有助于對功能器件的質(zhì)量控制和失效機制進行把控和解析，有效杜絕污染和器件失效發(fā)生，以達到不斷對產(chǎn)品工藝和技術(shù)進行優(yōu)化的目的。
撰稿人：崔園園
島津/Kratos X射線光電子能譜儀AXIS SUPRA+
AXIS SUPRA+的自動化技術(shù)
● 無人值守自動進行樣品傳輸和交換
● 硬件自動化控制，實時監(jiān)測譜儀狀態(tài)和校準
AXIS SUPRA+*的表面分析能力
● 具有高性能XPS分析、快速平行化學成像分析、小束斑微區(qū)分析
● 利用角分辨、高能X射線源、深度剖析可以實現(xiàn)從超薄到超厚的深度分析
● 多種功能附件(惰性氣體傳輸器、高溫高壓催化反應(yīng)池等)和可拓展多種表面分析技術(shù)，如紫外光電子能譜(UPS)，離子散射譜(ISS)，反射電子能量損失譜(REELS)，俄歇電子能譜和掃描俄歇電子顯微鏡(AES和SAM)等等
AXIS SUPRA+高效智能工作流程適合多用戶環(huán)境
● 高吞吐量、快速隊列樣品分析模式實現(xiàn)連續(xù)分析
● AXIS SUPRA+采用的通用表面分析ESCApe軟件系統(tǒng)使用戶與譜儀的交互簡單化和智能化，可以進行譜儀的控制、數(shù)據(jù)的采集和分析
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的，應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用，并注明“來源：儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責任。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源（非儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權(quán)行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負版權(quán)等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
浙公網(wǎng)安備 33010602002722號
第四屆全國光譜大會
展會城市：株洲市展會時間：2025-05-08