移動端
直播推薦
回放
回放
【中國儀器網(wǎng) 采購指南】現(xiàn)代液相色譜中，分離效果好壞很大程度上取決于色譜填料的選擇中。但是色譜填料的選擇范圍很寬，要做合適的選擇，必須對此有一定的認識和了解。
了解硅膠基質填料：
1、正相色譜
正相色譜用的固定相通常為硅膠(Silica)，以及其他具有極性官能團，如胺基團(ZH2,APS)和氰基團(CN，CPS)的鍵合相填料。
由于硅膠表面的硅羥基(SiOH)或其他團的極性教強，因此，分離的次序是依據(jù)樣品中的各組份的極性大小，即極性強落的組份zui先被沖洗出色譜柱。
正相色譜使用的流動相極性相對比固定相低，如：正乙烷(Hexane),氯(Chloroform)二氯甲烷(Methylence Chloride)等.
2、反相色譜
反相色譜填料常是以硅膠為基礎，表面鍵合有極性相對教弱的官能團的鍵合相。
反相色譜所使用的流動相極性教強，通常為水，緩沖液與甲醇，已腈等混合物。
樣品流出色譜柱的順序是極性教強組合zui先被沖出，而極性弱的組份會在色譜柱上有更強的保留。
常用的反相填料有C18(ODS) C8(MOS)。C4(B)C6H5(Phenyl)等。
聚合物填料：
聚合物調(diào)料多為聚苯乙烯-二乙烯基苯或聚甲基丙酸至等，其主要優(yōu)點是在PG值為1-14均可使用。
相對與硅膠基質的C18填料，這類填料具有更強的淑水性；大孔的聚合物填料對蛋白質等樣品的分離非常有效。
現(xiàn)在的聚合物填料的缺點是相對硅膠基質填料，色譜柱柱效教低。
其他無機填料
其它HPLC的無機填料色譜柱也已經(jīng)商品化。由于其特殊的性質，一般于特殊的用途。如墨化碳也用于正逐漸成為反相色譜填料。這種填料的分離不同與硅膠基質烷基鍵合相，石墨化碳的表面即是保留的基礎，不再需其它的表面改性，該柱填料一般比烷基鍵合硅膠或多孔聚合物填料的保留能力更強，石墨化碳可用于分離某些幾何導構體，又由于HPLC流動相中不會被溶解，這類柱可在任何PH與溫度下使用。氧化鋁也可用于HPLC，氧化鋁微粒剛性強，可制成穩(wěn)定的色譜柱柱床，其優(yōu)點是可在PH高達12的流動相中使用。但由于氧化鋁與堿性化合物作用也很強，應用范圍受到一定的限制，所以未能廣泛應用，新型氧化誥填料也可用于 HPLC，商品化的僅有聚合物涂層的多孔氧化誥微球色譜柱，應用PH范圍1~14，溫度可達到1000C。由于氧化誥填料幾年才開始研究，加之前的實驗難度，其重要用途與優(yōu)勢尚在進行中。
怎樣選擇填料粒度
目前，商品化的色譜料粒度從1um到超過30um均有銷售，而目前分析分離主要用3,5和10um填料，填料的粒度主要影響填充柱的兩個參數(shù)，即柱效和背壓。粒度越小，填充柱的柱效越高；小于3um的填料應用，在相同選擇性條件下，提高柱效可提高分離度，但不是*的因素。如果固定相選擇是真確，但是分離度不夠，那么選擇更小粒度的填料是很用有的，3um填料填充柱的柱數(shù)比相同條件下的5UM填料的柱效提高近30%；然而；3um的色相譜的背壓卻是5um的2倍。與此同時，柱效提高意味著在相同條件下可以選擇更短的色譜柱，以縮短分析時間，另外，可以采用低粘度的溶劑做流動相或增加色譜柱的使用溫度，比如用乙腈代替甲醇，以降低色譜柱的壓力。
如何保證良好的柱性能與柱壽命
認證閱讀色譜柱使用說明書
使用填充良好的色譜柱
盡量減少壓力波動，避免機械及熱沖擊
使用保護柱及在線過濾器
經(jīng)常以強溶劑沖洗色譜柱
充分過濾樣品及流動相，盡量避免雜質微粒與保強留分成
用穩(wěn)定的固定相(C18zui穩(wěn)定)
在中等PH紙操作(6~8)，用有機年成液溶
色譜柱使用溫度小于400C
硅膠基質的的色譜柱，應保持流動相的PH值范圍在3.0~8.0
在水流動相與緩沖濃液中加200ppm的疊氮鈉
流動相中含有緩沖溶液，應注意應95∶5的水及有機溶劑過渡，有機溶劑不能低于5%
過夜或儲存時，沖洗掉鹽和緩沖液，用純有機溶劑流動相保存(乙晴)
免責聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源：儀器網(wǎng)”的所有作品，均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡有限公司-儀器網(wǎng)合法擁有版權或有權使用的作品，未經(jīng)本網(wǎng)授權不得轉載、摘編或利用其它方式使用上述作品。已經(jīng)本網(wǎng)授權使用作品的，應在授權范圍內(nèi)使用，并注明“來源：儀器網(wǎng)”。違反上述聲明者，本網(wǎng)將追究其相關法律責任。
- 本網(wǎng)轉載并注明自其他來源（非儀器網(wǎng)）的作品，目的在于傳遞更多信息，并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責，不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉載時，必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源，并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內(nèi)容、版權等問題，請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系，否則視為放棄相關權利。
浙公網(wǎng)安備 33010602002722號
第四屆全國光譜大會
展會城市：株洲市展會時間：2025-05-08