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中國，2019年12月5日：日立分析儀器（Hitachi High-Tech Analytical Science）是一家日立高新技術(shù)公司（TSE：8036）旗下的一家全資子公司，主要從事分析和測量儀器的制造和銷售，其已推出一款開創(chuàng)性的OE750型新型直讀光譜儀，用于驗證金屬加工廠中的來料規(guī)格分析。

由于供應(yīng)鏈變得復雜，*質(zhì)量策略和要求更高的規(guī)格和標準層出不窮，因此金屬加工業(yè)面臨著越來越大的壓力，他們需要在投入生產(chǎn)前檢查來料是否違反牌號信息，檢查雜質(zhì)和痕量元素的含量。為了滿足這些新的QAQC高要求，新型OE750直讀光譜儀具有超高的分析性能水平。它涵蓋金屬元素的所有光譜，并具備一些低檢出限。因此，此款分析儀具備價格高昂的同類儀器所能提供的功能水平，可*為許多金屬加工企業(yè)提供優(yōu)質(zhì)分析。

OE750實現(xiàn)高分辨率和寬動態(tài)范圍要歸功于采用了先進CMOS探測器技術(shù)的革命性新光學理念。因此，這種新型分析儀能覆蓋非常寬的波長范圍；這意味著該分析儀能測量金屬中ppm級別的所有元素。這對于滿足當今嚴格的金屬規(guī)格分析至關(guān)重要，該分析儀可滿足相關(guān)標準和規(guī)格的要求，例如ASTM E415標準中關(guān)于碳鋼和低合金鋼的試驗方法和ASTM E1086標準中關(guān)于用火花原子發(fā)射光譜法分析不銹鋼的標準試驗方法。

OE750的新光學系統(tǒng)設(shè)計的一個優(yōu)點是啟動時間短。由于光學系統(tǒng)體積小，不到一小時的時間便可啟用儀器。可在需要檢查100%來料的情況下，助力實現(xiàn)高批量生產(chǎn)。

除了新的光學設(shè)計之外，OE750還有其他支持大批量金屬分析的技術(shù)特性。它有一個新的密封火花臺，具有優(yōu)化層流設(shè)計，可降低氬氣消耗，降低污染的可能性，并大大降低維護要求。帶有低壓氬氣吹掃的*中壓系統(tǒng)可減少泵的使用。這可將泵的功耗降低90%，并避免油氣污染，從而增加可靠性和儀器的正常運行時間。這使得OE750具有高可靠性和低運行成本。

除創(chuàng)新性硬件技術(shù)外，新型OE750還包括可提高性能的軟件。例如，它包括日立牌號數(shù)據(jù)庫，該數(shù)據(jù)庫包含來自69個國家的339,000多種材料的1,200多萬條記錄和標準，減少了人工查閱牌號目錄的時間和潛在錯誤。作為選擇方案，它配有SPC/LIMS包，能夠輕松有效監(jiān)控該儀器所涉過程以及由其控制的過程。這是滿足IATF 16949等標準要求的理想工具。

日立OES產(chǎn)品業(yè)務(wù)開發(fā)經(jīng)理Wilhelm Sanders表示：“在過去，金屬加工企業(yè)在購買儀器時，不得不在高分析性能和可接受價格范圍之間作出選擇。現(xiàn)在有了新型OE750，他們無需想出折中方案了。OE750能憑借一套可使用的解決方案提供全面的金屬分析。”

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