DSX-APO-RP1020D常壓等離子清洗機產(chǎn)品簡介：

等離子清洗機(plasma cleaner)也叫等離子清潔機，或者等離子表面處理儀，是一種全新的高科技技術，利用等離子體來達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體和固體、液體或氣體一樣是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見的固液氣三態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子清潔機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而實現(xiàn)清潔、涂覆等目的。等離子體清洗技術的*大特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現(xiàn)整體和局部以及復雜結構的清洗。通過等離子清洗機處理，能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機污染物、油污或油脂。

DSX-APO-RP1020D常壓等離子清洗機原理：

等離子清洗機原理：

等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運動狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(自由基);離子化的原子、分子;未反應的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。等離子體清洗的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應機理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質(zhì)被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產(chǎn)物分子;產(chǎn)物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。

活化清洗原理：

A，物理作用：對材料表面的粒子轟擊

等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細均勻的形貌，*大了樣品的比表面，提高了固體表面的附著力。

B，交聯(lián)作用：激活鍵能

等離子體中的粒子能量在0-20eV,而聚合物中大部分的鍵能在0-10eV,因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學鍵產(chǎn)生斷裂，等離子體中的自由基與這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結構，大大的激活了表面活性。

C，化學作用:形成新的官能團

如果放電氣體中引入反應性氣體，引入新的官能團，如烴基、氨基、羧基等，在活化的材料表面會發(fā)生復雜的化學反應，這些官能團都是活性基團，明顯提高材料表面活性。

DSX-APO-RP1020D常壓等離子清洗機產(chǎn)品優(yōu)勢：

1、可選配多種類型噴嘴，使用于不同場合，滿足各種不同產(chǎn)品和處理環(huán)境

2、設備尺寸小巧，方便攜帶和移動，節(jié)省客戶使用空間

3、可In-Line式安裝于客戶設備產(chǎn)線中，減少客戶投入成本

4、使用壽命長，保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制

5、環(huán)保技術：等離子體作用過程是氣- 固相干式反應 ,不消耗水資源、無需添加化學藥劑,對環(huán)境*染。

6、廣適性：適用于顆粒、粉末狀產(chǎn)品，,如細煤粉、玻璃珠材料都能很好地處理;

7、溫度低：接近常溫，特別適于高分子材料，比電暈和火焰方法有較長保存時間和較高表面張力。

8、功能強：僅涉及高分子材料淺表面(10 -1000A )，可在保持材料自身特性的同時，賦予其一種或多種新的功能;

9、低成本：裝置簡單，易操作維修，可連續(xù)運行，往往幾瓶氣體就可以代替數(shù)千公斤清洗液,因此清洗成本會大大低于濕法清洗。

10、全過程可控工藝：所有參數(shù)可由PLC設置和數(shù)據(jù)記錄，進行質(zhì)量控制。

11、處理物幾何形狀無限制：面積大或小，簡單或復雜，部件或紡織品，均可處理。

12、清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序?？梢蕴岣哒麄€工藝流水線的處理效率;

13、等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題;

14、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性;

15、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體。與激光等直射光線不同，等離子體的方向性不強，這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好;

16、使用等離子清洗，可以使得清洗效率獲得及大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點;

17、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設備成本不高，加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有機溶劑，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝;

18、使用等離子清洗，避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生;

19、等離子體清洗可以不分處理對象，它可以處理各種各樣的材質(zhì)，無論是金屬、半導體、氧化物，還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗;

20、在完成清洗去污的同時，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應用中都是非常重要的 。

21、清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的，不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以提高整個工藝流水線的處理效率;

22、等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害，同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題;

23、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物，因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性;

24、采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體。與激光等直射光線不同，等離子體的方向性不強，這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果相似甚至更好;

25、使用等離子清洗，可以使得清洗效率獲得及大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成，因此具有產(chǎn)率高的特點;

26、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa，這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設備成本不高，加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有機溶劑，這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝;

27、使用等離子清洗，避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施，所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生;

28、等離子體清洗可以不分處理對象，它可以處理各種各樣的材質(zhì)，無論是金屬、半導體、氧化物，還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗;

29、在完成清洗去污的同時，還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等，這在許多應用中都是非常重要的。

DSX-APO-RP1020D常壓等離子清洗機主要功能：

等離子體其中包括原子、分子、離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)原子、活化的分子及自由基，這些粒子的能量和活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學鍵，在任何暴露的表面引起化學反應從而有些化學鍵被打開后結合上氧原子等高活性的物質(zhì)，使得材料表面親水性得到很大提高，同時對材料表面的油污等有機大分子形成新的化學反應，生成氣態(tài)小分子，例如生成二氧化碳，水汽等氣態(tài)物質(zhì)在空氣中被散發(fā)掉，從而達到對材料表面分子級別的清洗。

DSX-APO-RP1020D常壓等離子清洗機應用領域：

主要應用于電子行業(yè)的手機殼印刷、涂覆、點膠等前處理，手機屏幕的表面處理、國防工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗、通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷、轉移印刷前處理。

橡塑行業(yè)

在汽車行業(yè)：點火線圈、發(fā)動機油封片、汽車行業(yè)其他方面的應用

電子行業(yè)：硬盤塑料件、耳機聽筒、手機外殼

國防行業(yè) ：航空航天電連接器 、凱夫拉處理

醫(yī)療行業(yè)：靜脈、的處理

紡織纖維行業(yè)

DSX-APO-RP1020D常壓等離子清洗機技術參數(shù)(旋轉噴頭)：

名稱(Name)：噴射型AP等離子表面處理系統(tǒng)

型號(Model)：DSX-APO-RP1020D

電源(Power Supply)：220V/AC ,50/60Hz

功率(Power)：800W/25KHz

處理高度(Processing Height)：5- 15mm

處理寬帶(Processing Width)：20-80mm (Option)

內(nèi)部控制模式(Internal Control Mode)：數(shù)字控制.

外部控制模式(External Control Mode)：RS232數(shù)字通信口,模擬量控制口

工作氣體(Work Gas)：Compressed Air (0.4Mpa)

噴嘴規(guī)格：長180mm,直徑48mm

噴頭尺寸(不含噴嘴部分)：180*85*155長寬高

主機控制器尺寸：500*185* 170mm長寬高

控制器重量：4kg

噴頭重量：2.5kg