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儀器網(wǎng) 展商報(bào)道】2024年10月23日，第十四屆中國國際納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)博覽會(簡稱“納博會”)在蘇州國際博覽中心盛大開幕。作為納米科技領(lǐng)域的盛會，納博會吸引了全球各地的納米技術(shù)相關(guān)企業(yè)、科研機(jī)構(gòu)和專業(yè)觀眾前來參展和交流。本次展會聚焦微納制造、第三代
半導(dǎo)體、柔性印刷
電子、納米壓印、纖維/凝膠/影像材料、光電/激光、新型顯示、分析檢測、納米應(yīng)用等領(lǐng)域，為納米領(lǐng)域技術(shù)展示和交流提供重要平臺。上海納騰儀器有限公司(以下簡稱“納騰儀器”)作為納米科學(xué)儀器領(lǐng)域的佼佼者，攜其產(chǎn)品亮相此次納博會，成為展會的一大亮點(diǎn)。
納騰儀器是一家專注于為微納米科學(xué)領(lǐng)域提供相關(guān)設(shè)備和服務(wù)的企業(yè)，同時(shí)也是國內(nèi)微納耗材銷售眾多的公司。自成立以來，一直致力于推薦、引進(jìn)和轉(zhuǎn)化在納米科學(xué)、物理、
化學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)等科研教學(xué)領(lǐng)域內(nèi)起重要作用的新儀器和新產(chǎn)品。此次參展，公司帶來了多款產(chǎn)品，包括Zeta光學(xué)輪廓儀、Pharos 310電子束曝光系統(tǒng)、Filmetrics R50薄膜電阻率測繪系統(tǒng)等。
在展會現(xiàn)場，納騰儀器的展位吸引了眾多專業(yè)觀眾的目光。公司代表詳細(xì)介紹了產(chǎn)品的技術(shù)特點(diǎn)和應(yīng)用領(lǐng)域，并現(xiàn)場演示了產(chǎn)品的操作流程和實(shí)際效果，贏得了現(xiàn)場觀眾的一致好評。
上海納騰儀器有限公司展位
Zeta光學(xué)輪廓儀
Zeta光學(xué)輪廓儀
基于 ZDot 專利技術(shù)，KLA 的 Zeta-20/300 光學(xué)輪廓儀可以對近乎所有材料和結(jié)構(gòu)進(jìn)行三維成像測量分析，從超光滑到高粗糙度、低反射率到高反射率表面、透明到不透明介質(zhì)。由于多種光學(xué)模式和模塊化設(shè)計(jì)理念，納騰儀器為用戶提供了一系列的硬件和軟件選項(xiàng)來滿足各種不同的測量需求，所有硬件安裝和操作都簡單易用。Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀集成了六種光學(xué)計(jì)量技術(shù)，同時(shí)采集高分辨率 3D 掃描和真彩色無限對焦圖像，也可用于樣品審查或自動缺陷檢測。該產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于醫(yī)療衛(wèi)生、電子、航天、汽車等領(lǐng)域。
Zeta-20三維光學(xué)輪廓儀優(yōu)點(diǎn)：
1.多功能——能夠在任何表面上進(jìn)行多次測量
2.特定應(yīng)用軟件和算法
3.對振動和樣品傾斜不敏感
4.高光通量設(shè)計(jì)——實(shí)現(xiàn)其他系統(tǒng)無法進(jìn)行的測量
5.易于使用——用戶可以快速啟動和運(yùn)行
Pharos 310電子束曝光系統(tǒng)
Pharos 310電子束曝光系統(tǒng)
電子束曝光指利用聚焦電子束在光刻膠上制造圖形的工藝,是光刻工藝的延伸應(yīng)用。電子束曝光系統(tǒng)是實(shí)現(xiàn)電子束曝光技術(shù)的硬件平臺，系統(tǒng)的性能決定了曝光工藝關(guān)鍵尺寸、拼接和套刻精度等指標(biāo)。
Pharos 310可在4寸基片上曝光<20nm關(guān)鍵特征尺寸。利用Pharos310系統(tǒng)可輕松曝光復(fù)雜版圖，是實(shí)驗(yàn)室條件下進(jìn)行亞微米至納米級別光刻技術(shù)研發(fā)的利器。
Filmetrics R50薄膜電阻率測繪系統(tǒng)
Filmetrics R50薄膜電阻率測繪系統(tǒng)
Filmetrics R50是KLA薄膜電阻和電導(dǎo)率系統(tǒng)的最新產(chǎn)品，它的性能針對金屬膜均勻性映射、離子摻雜和注入表征、膜厚度和電阻率映射以及非接觸膜厚度測量進(jìn)行了優(yōu)化，被廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體、先進(jìn)封裝、太陽能、平板和VR顯示、印刷電路、可穿戴設(shè)備、導(dǎo)電材料等領(lǐng)域。
Filmetrics R50薄膜電阻率測繪系統(tǒng)的優(yōu)勢：
1.可選接觸式四探針探頭和非接觸式渦流探頭
2.最大樣品高度100mm，具有粗調(diào)和細(xì)調(diào)兩種高度控制方式
3.導(dǎo)電材料和半導(dǎo)體薄膜的測量技術(shù)領(lǐng)先十年
4.使用矩形、線性、極軸和自定義配置的測試點(diǎn)自定義編輯
5.高精度X-Y工作臺，Z向行程200mm。
6.易于使用的軟件界面
7.兼容所有KLA薄膜電阻探頭
此次亮相納博會，不僅展示了納騰儀器在納米科學(xué)儀器領(lǐng)域的較高地位和創(chuàng)新能力，也為公司拓展市場、提升品牌影響力提供了重要契機(jī)。未來，上海納騰儀器有限公司將繼續(xù)秉承“創(chuàng)新、專業(yè)、服務(wù)”的企業(yè)理念，致力于為各大高校、科研院所、工廠企事業(yè)單位提供先進(jìn)的科學(xué)儀器及相關(guān)耗材，為推動祖國微納米事業(yè)的騰飛貢獻(xiàn)更多力量。
此次納博會的成功舉辦，不僅為全球納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)搭建了一個(gè)交流與合作的重要平臺，也為納騰儀器等企業(yè)提供了展示實(shí)力、拓展市場的寶貴機(jī)會。相信在未來的發(fā)展中，納米技術(shù)將繼續(xù)引領(lǐng)科技創(chuàng)新的潮流，為人類社會帶來更多的福祉和進(jìn)步。
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