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磁控離子濺射儀

產品介紹：

磁控離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術開發(fā)研制成高科技產品，作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器，可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測試樣的微觀形貌，從而提高試樣的導電性和導熱性。磁控離子濺射儀為全閉環(huán)真空設計配有全量程皮拉尼真空計等多個傳感器實時監(jiān)控運行狀態(tài)，保證儀器安全穩(wěn)定運行。自動磁控離子濺射儀采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環(huán)境，高精度的濺射電源采用恒流控制來保證高精細的膜層質量。同時平面磁控測射陰極減少等離子體對試樣表面的轟擊和熱效應，高性能的平面磁控濺射陰極可實現多種靶材的選擇 (Au、Pt、Ag、Pd等)，高精度的納米涂層為納米級別，可滿足現代分析實驗要求。可用于制備高質量的金屬薄膜、半導體薄膜、介電、絕緣材料薄膜以及復合薄膜、多層異質結等。

應用領域：

光學領域：中頻閉場非平衡磁控濺射技術應用于光學薄膜（如減反射膜）、低輻射玻璃和透明導電玻璃；

微電子領域：用于沉積具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的薄膜，如低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽能電池的光電轉換效率。

高溫超導薄膜、鐵電薄膜、巨磁阻薄膜等領域：磁控濺射技術在這些領域的研究中發(fā)揮著重要作用；

機械加工行業(yè)：表面功能膜、超硬膜和自潤滑膜的表面沉積技術可有效提高表面硬度、復合韌性、耐磨性和高溫化學穩(wěn)定性，從而提高涂層產品的使用壽命。

產品優(yōu)勢：

1、全自動操作，簡單易用，非常適用鎢燈絲、臺式掃描電鏡等

l濺射電流自動調整?設定濺射電流后，系統(tǒng)自動調節(jié)真空度，從而達到設定的濺射電流，調整時間＜5s，波動范圍＜5%；無需按“實驗”鍵調整濺射電流、無需操作“進氣閥”。

l濺射時間自動記憶?同類樣品一次設定即可；

l參數改變自動調整?濺射過程中可以隨時調整濺射電流和濺射時長，系統(tǒng)自動計算疊加，無需終止濺射過程；

l工作完成自動放氣；

l樣品臺高度調節(jié)1秒完成；

l濺射過程可以利用曲線顯示，清晰直觀。

2、軟硬件互鎖，防誤操作，安全可靠

l真空度高于100Pa，啟動真空保護，無法濺射；

l濺射電流高于50mA，停止濺射過程；

l真空泵工作時，系統(tǒng)無法進行放氣操作；